第283章

    简单来说，euv光刻机是由光源系统，光学系统，掩膜系统，投影光学系统和步进系统等部分组成。chunmeiwx

    光源系统通常由高亮度、高稳定的激光系统产生波长为135n极紫外光，并通过一系列的反射和透射镜等光学元件，进行光路传输和光束整形。

    光学系统包括一系列反射镜和透射镜等光学元件，对极紫外光进行操控和处理，实现高精度和高分辨率的光刻。

    掩膜系统则是用于制作光刻胶上的图案与组件，投影光学系统是将掩膜上的图案，投影到光刻胶表面，形成所需微型结构组件。

    而步进系统则是用于控制光刻胶与掩膜相对运动，也就是位置与精度。

    想要研发出最强的光刻机，无疑必须要在全方位进行突破，这才能真正达到摩尔定律的极限。

    没错，是真正达到。

    陈谦非常清楚，西方口中所谓的几纳米芯片，完全是在放屁。

    他清楚记得在上一世，明明芯片制程都推进到了3纳米，可性能的提升却和屎一样。

    原因便在于关于“几纳米”的定义，掌握在西方手里，可真正决定芯片性能的因素，在于晶体管数量。

    上一世中，因特尔的10纳米芯片有100亿晶体管，而台基电96亿晶体管数量的芯片，却对外宣称自己是7纳米！

    这种骚操作直接将让台基电的芯片卖爆了！

    因为手机厂商可以对外宣称，自己使用的是7纳米芯片！更有噱头！

    后来因特尔又推出7纳米芯片，具有180亿晶体管，台基电反手也推出180亿晶体管的芯片，却声称自己是4纳米，结果又卖爆了。

    最终的结果便是因特尔妥协，而国外芯片产业也开始了无声的默契。

    每年照例推出芯片，价格年年上涨，但你别管有多少晶体管，这不重要，反正有进步就对了，至于这是多少纳米的制程，就看我想怎么说了。

    表面上所有人都以为，芯片的性能即将到达摩尔定律极限，技术要求越来越高，突破越来越难，所以每年芯片的性能提升才不大。

    但实际上，技术要求越来越高是真的，突破越来越难也是真的，但你要说到达极限，那还远得很呢！

    陈谦要做的，便是直接推出极限性能的硅基芯片，西方就慢慢追吧！

    等他们快追上了，自己知识也进化的差不多了，然后直接换赛道！

    量子芯片他不香嘛！

    “但话说回来，我要不要也做手机呢？”陈谦突然想道。

    纠结了一会儿，他下定了决心。

    做！

    反正汽车他都要上下游通吃了，做个手机怎么了！

    赚钱嘛，不磕碜。

    再说了，自己赚不够钱怎么去养保障部？怎么去给全国人民更好的生活？

    “看来不止要招普通员工，研究员也要多招点。”陈谦想着，唤出了莉雅。

    “莉雅，筛选一批科研人员的名单给我。”

    莉雅有些奇怪：“哥哥你是又要挖人了吗？上次不是失败了吗？”

    “谁说失败了。”陈谦微微一笑：“上了年纪的大佬挖不动，我还不能挖一挖下面人吗？”

    “就选年纪在三十到五十岁左右，能力越强越好，要是郁郁不得志那就更棒了！”

    莉雅顿时明白了他的意思，眼睛一亮：“这样的话，还是有可能挖来的哎。”

    “好的哥哥，我这就去弄！”

    ……

    晚上，陈谦正要下班回家，突然发现热搜又热闹了起来。