第25章 老鲜肉，芯片制程工艺
上岭市高铁站出口广场，包正义和范晓明站在一起闲聊着，两人眼睛不时的瞄向出站口。
“老板！这师伯真够磨叽的，高铁到站都有五分钟了，也没见人出来。”范晓明有些不耐烦的说，“苏哲已经醒了，我想知道苏哲到底搞没搞出离子束抛光技术，还有那些a4纸上写的东西，我要苏哲一个一个的给我讲解……那个，老板，你说苏哲咋就那么强，看看书就会了，这是不是太妖孽了。”
他根据邓佳佳查出来的情况判断。
苏哲在短短的十二天的时间内学完了数学和物理本硕博三个阶段的知识，且还看了大量的相关论文。
从那些a4纸上写的内容就能知道，苏哲掌握了数学和物理相关的知识，甚至比他和他老板掌握的还要牢靠。
这……这样的结论他很难接受。
“哎！天才和天才之间也是有差距的，这一点我们不得不承认，再有，可能苏哲以前就学习过相关的知识，毕竟现在的网络如此发达。”包正义自我安慰的说。
范晓明点点头，“顶级的天才我是见过的，过目不忘不说，理解能力超强，可惜的是这位顶级天才学了金融，现在在金融界被人耍的团团转。”
“金融！那是人和人之间的游戏，再顶级的天才进去也没用。”包正义指向出站口，“看，牛大教授出来了。”
“晕！牛师伯四十出头的年龄，老鲜肉一枚，穿的这么正式，皮鞋西裤寸衫的，手上还提着公文包，不知道的还以为是卖保险的。”范晓明嘀咕着。
说着，两人往出站口走去。
牛光辉手中提着公文包，刚从出站口出来，远远的看到了包正义和范晓明。
三人来到一起，打完招呼。
范晓明咳嗽一声，笑着问：“牛师伯，euv光源进展如何？”
清大的研究团队已经搞定了euv光源的问题，不过清大使用的是同步辐射光源，其有个缺点，相比于等离子体光源，极其的消耗能量。
等离子体光源产生的极紫外光本就高耗能，何况同步辐射光源产生的极紫外光了。
而他师伯牛光辉，研究的是等离子体光源产生的极紫外光。
“那个，晓明啊！你就不要叫师伯了，叫师兄，至于euv光源我们暂且不说，还是说说苏哲。”牛光辉想起了什么，“包师弟！你们第六次测试是不是失败了，传言说你想不开，还进了医院。”
包正义脸瞬间就黑了，解释说：“第六次测试是失败了，进医院的不是我，是苏哲，再说我也没有想不开，不就是测试失败吗！多大点事。”
“对嘛！我就说那些人胡扯，包师弟这么坚强的人，不可能被小小的挫折打败。”牛光辉笑着说，“对了，你为何如此推崇苏哲，苏哲是省状元不假，可没必要花如此大的代价。”
“啥！苏哲真的是省状元，确定了？”范晓明笑着问。
“我上午托人查的，苏哲是今年的省理科状元，考了749分，而且，他是唯一一个数学考满分的考生。”牛光辉点着头说。
范晓明知道苏哲能考满分，但不知道只有苏哲一个人考了满分，对此他还是点惊讶的。
至于苏哲考了749分，他和包正义觉得很正常。
天才嘛！
当年他们谁没考七百几十分，只是没拿到当年的状元罢了。
“走，我们去医院的路上说，去晚了搞不好就让清大和燕大把人抢走了。”包正义招呼着。
既然他师兄牛光辉能通过关系提前知道苏哲的高考成绩，那清大和燕大的招生老师想必也都知道了，毕竟这两家抢状元已经是惯例了。
去市立医院的路上，范晓明开车，包正义和牛光辉坐在后排。
“包师弟，你和我说说，你为何花如此代价帮苏哲，那怕苏哲是省状元，是数学天才，也不用这样，还是发现苏哲有什么特殊之处？”牛光辉很好奇。
包正义咳嗽一声，面不改色的说：“我是为了我们陵州理工，为了我们的物理学院，我可不想像苏哲这样的天才让给清大、燕大，你知道苏哲有多天才吗？这么说吧！我们三绑在一起也没苏哲天才。”
“这么夸张，你没忽悠我，忽悠迟早会露馅的。”牛光辉笑了笑，“你不知道，上午，老师为了拿到政策，和校长徐正平在校长办公室大吵了一场，最后，校长勉强接受了，不过有个条件，让苏哲做一套试卷，分数只要超过80分就行。”
现在学校已经传开了，说他老师王修齐院士为了给亲戚家的孩子走后门，和校长大吵了一场。
“做试卷，什么试卷？”包正义问。
“那个，是从国家竞赛集训队找来的题目，从数学、物理、化学、生物、信息学五个科目中各找了十五道填空题和一道解答题，加在一起是七十五道填空题，五道解答题，满分一百分。”牛光辉解释。
“你们，你们过分了吧！前面四个科目我就不说了，信息学算怎么回事，苏哲根本没有接受过相关的训练，你们这是在坑人。”包正义愤愤不平的说。
“这是徐正平校长妥协的条件，毕竟你提出的条件太苛刻了，不用上课，不用考试……对了，校长同意给苏哲学习和科研方面的自由，但每年需要相应的成果，或者通过校学术委员会的现场考核。”牛光辉补充道。
包正义点点头，说道：“这个比较合理，我想这个苏哲会接受的。”
绝对的自由也不是好事，适当的考核还是有必要的。
两人聊完苏哲的事，聊起国内euv光刻机及五纳米以下芯片制程工艺的相关话题。
范晓明一边开车，一边听着，心里很不是滋味。
目前国内，能够自主可控的是制造28纳米及28纳米以上制程工艺的芯片。
14纳米制程工艺的芯片国内能生产，但相关设备高度依赖进口。
至于14纳米一下，国内目前无法制造。
现在，世界上最先进的芯片制程工艺是3纳米。
14纳米、7纳米、5纳米，再到3纳米，比起国内，整整先进了四代。
而他们这些人，以及相关的高校、机构直接跳过了前面的三代，直接研究3纳米芯片制程工艺。
相关的设备如刻蚀机、薄膜沉寂设备等等都已解决，就剩下最为核心的光刻机了。
而光刻机中的三大难题，euv光源、双工件台和光学镜头，其中双工件台的难题已经解决。
euv光源的问题，清大研制的同步辐射光源虽说极其耗能，但能用。
最后就是光学镜头了。
就他知道的专业研究光学镜头的团队就超过了五个，再加上一些不知名的，参入euv光学镜头研究的团队很多。
相对来说，上岭大学光学镜头研究中心走在了最前列，一旦突破离子束抛光技术，euv光刻机光学镜头的难题将得到解决。
那时euv光刻机的制造不再是难题，这也意味着他们实现了弯道追赶，掌握自主可控的3纳米芯片制程工艺。
他觉得，突破离子束抛光技术的时间快了，那怕苏哲那没有进展，靠他们自己，再来两轮差不多就成功了。